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产品名称: 非标探针台
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产品数量:
产品单价: 面议
日期: 2024-09-18

非标探针台的详细资料

非标探针台

I (1)微型探针台

•整机外形尺寸:约380mmL*300mmW*320mm H,重量:约10 kg;

•双探针座平台镀镖设计,提高了针座平台和针座之间的吸附力;

• ChJKZC-UCk XY微分头设计,行程25mm*25mm,精度2um;

• ChJKZC-UCk大小:2英寸,中心吸附孔和多圈吸附环固定样品,均独立控制;

•卡盘电学独立悬空,带4mm香蕉头插口,可以作为背电极使用;

-台体底板带高性能防震海绵,可一定程度减小外界震动对测试的干扰;

•整机人体工程学设计,操作简单,使用便捷。

| (2)倒装手动测试夹具

-可给样品加载DC或者RF信号;

•样品可在0~180度任意角度内进行旋转并固定;

-具备微调功能,精度0.1度;

•玻璃样品载台,高透光性;

•可无磁化设计,在光学,电磁等环境中运用较为广。

| (3)光电流测试显微镜

-可在原有光路基础上可以导入另一路光源,用于辐照样品以测试样品在特定波长及能量下电学性能;

-显微镜设计为双光路或3光路,其中一路为导入光通路,另一到两路为成像光路导入光为平行的激光或其它线性光源 ,波长范围200nm~20000nm,中间可加入多个波片过滤,起偏及偏振角度无级360度调节。光斑辐照直径有650nm红光 指示。所有模块均可拉出设计,对导入光性质无影响;

-导入光光路可选择光时间开关,精确控制导入光的辐照时间,精度1ms,范围2ms~oo,在控制界面上可对各种参数进 行详细设置,成像光路为同轴照明金相成像,其中一路为1倍成像,可选择第2路成像,为物镜的0.25-10倍率,通常在高 低温测试系统里会用到,同一个物镜不切换,得到两个不同视野的成像。

(4)TEC制冷卡盘

•釆用TEC制冷,无需液氮,使用方便;

可给样品提供不同温度环境;

-样品台大小可选,防干扰设计,具备良好的接地性能;

•温度范围:负45°C~150°C,温度分辨率:0.1°C,

温度稳定性:土 0.3°C;

•样品台微调升降,行程O-lOmm,精度10umo

 (5)磁场探针台(无磁设计)

•在探针台的基础上,可加载三维磁场,多维磁场,磁场强度,精度和间隙均可调整;

-高刚性结构,所有零配件均采用无磁化材料;

-可加载高低温,可同时进行DC和RF测试;


-可以旋转,可客制化。

|⑹110g以上高频测试探针台

-可配合市场主流扩频模块进行超高频测试;

•大行程高精度探针座,X-Y-Z-Theta四轴控制;

-显微镜可以在2英寸*2英寸*2英寸范围内移动,扩大了显微镜视场;

-兼容直流与高频信号;

-可以定制,可升级性强;

-最大可以测试12英寸样品,探针台chJKZC-UCk具备升降功能,便于样品和 探针的快速分离。


(7)自动测试系统

-自动探针测试系统,可以与半参,网分联动;

-电动二维平台,可手动和电动操作;

• ChJKZC-UCk XY轴运动行程100*100mm,复定位精度<±lum;

• X-Y轴驱动:电机+丝杆+光栅尺;

-探针/光纤探针XYZ轴电动模块30*30*30mm,复定位精度W ±lum;

-X-Y-Z轴驱动:电机+丝杆+光栅尺。

| (8)可升降平台

产品型号:T-station

产品参数:

-尺寸和重量定制;

-单个探针座平台最多可同时放置3个探针座;

-探针座平台表面镀镖,增大与探针座之间的吸附力;

-隐匿螺纹固定于标准蜂窝板,美观,并且方便拆卸;

-平台可升降,升降高度和精度可定制;

-可配合光电流显微镜使用。

| (9)高精度纳米探针座

产品型号:JKZC-DCH-20nm

产品参数:

-X轴分辨率:20nm,行程30um (旋钮控制盒);

-YZ轴分辨率:10um,行程+-6.5mm;

-釆用高精度压电陶瓷设计,可以固定步距拨动样品或者纳米线。

(10)毫米级手持式探针夹具

I产品型号:JKZC-DCH

I产品参数

•整体尺寸:20*20*180mm;

-万向调节旋钮,方向可调,松紧可调;

磁吸底座,直径20mm;

•兼容弹簧针和晶圆针;

-Cable接头可定制三轴,同轴或者其它。


(11) FA失效分析探针台

|产品型号:FA

I产品参数

•探针台系统可以选用:4~12英寸JKZC-DN系列探针台。

•激光系统可以选用美国ESI三波段激光器或者法国 quantel激光器

•美国ESI (NEWWAVE)激光器参数

镭射波长1064和532nm和355nm

输出功率2.2mJ/pulse

击打频率lHz~50Hz

可加工的材质:Copper/Gold/Poly Silicon/Alu minum/Silicon Dixoide等

最小加工尺寸1微米(使用100X物镜)

最大加工尺寸40微米(使用50X物镜)